2021年4月8日 / 最終更新日時 : 2021年5月24日 hi-think-01 実験計画法 実験計画法および分散分析を用いた成膜装置パラメータ分析 MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition:有機金属化学気相成長法)装置によるデバイスの薄膜生成において、各種ガスの流量や設定基板温度等の生産条件は重要です。しかし使用す […]